ミストCVDを用いた酸化物の結晶成長をメインに評価やデバイスの作製も行っています。
学位はコランダム構造酸化物の成長と評価、デバイス応用に関する内容で取りました。
最近はルチル構造の酸化物をメインに取り組んでいます。
バレンシア大学ではMOCVD法、スプレーパイロリシス法、ミストCVD法について学んでいました。
成長実績のある材料(共同研究含む)：α-Ga2O3、β-Ga2O3、κ-Ga2O3(ε)、δ-Ga2O3、α-Fe2O3、β-Fe2O3、rh-In2O3(α)、rh-ITO、Bi doped In2O3 (IBO)、α-(In, Ga)2O3、α-Cr2O3、SnO2、GeO2、ZnO、NiO、HfO2、ZrO2、(Hf, Zr)O2 (HZO)など
これ以外にも様々な材料に興味があります。特にミストCVD特有の強いエピタキシャル性を活かした新しい準安定構造の創成に興味があります。まだまだ若輩者ですが、何か私にできることがあればいつでもご連絡ください。
Mail: n24a0001○kit.ac.jp (○ を @ に変えてください)

My work is crystal growth by mist chemical vapor deposition and its characterization.
My Ph.D. degree was on the growth and characterization of corundum-structured oxides and their device applications.
My recent work is growth and characterization of rutile structured oxides.
I learned about MOCVD and spray pyrolysis methods at the University of Valencia.
Materials: α-Ga2O3, β-Ga2O3, κ-Ga2O3(ε), δ-Ga2O3, α-Fe2O3, β-Fe2O3, rh-In2O3(α), rh-ITO, Bi doped In2O3 (IBO), α-(In, Ga)2O3, α-Cr2O3, SnO2, GeO2, ZnO, NiO, HfO2, ZrO2, (Hf, Zr)O2 (HZO), etc.
I am interested in a variety of materials other than those listed above. In particular, I am interested in the creation of new metastable structures utilizing the strong epitaxial nature unique to mist CVD. If there is anything I can do for you, please contact me anytime.