ミストCVDを用いた酸化物の結晶成長をメインにデバイスの作製まで行っています。
主にコランダム構造の酸化物に関する研究を行っています。
バレンシア大学ではMOCVD法、スプレーパイロリシス法、ミストCVD法について学んでいました。
成長実績のある材料(共同研究含む)：α-Ga2O3、β-Ga2O3、κ-Ga2O3(ε)、δ-Ga2O3、α-Fe2O3、β-Fe2O3、rh-In2O3(α)、rh-ITO、Bi doped In2O3 (IBO)、α-(In, Ga)2O3、α-Cr2O3、SnO2、GeO2、ZnO、NiO、HfO2、ZrO2、(Hf, Zr)O2 (HZO)など

My work is crystal growth by mist chemical vapor deposition, and device fabrication.
Much of the material I grow exhibits a corundum structure.
I learn about MOCVD and spray pyrolysis methods At the University of Valencia.
Materials: α-Ga2O3, β-Ga2O3, κ-Ga2O3(ε), δ-Ga2O3, α-Fe2O3, β-Fe2O3, rh-In2O3(α), rh-ITO, Bi doped In2O3 (IBO), α-(In, Ga)2O3, α-Cr2O3, SnO2, GeO2, ZnO, NiO, HfO2, ZrO2, (Hf, Zr)O2 (HZO), etc.